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半导体用高精度冷水机

DHTChiller-SE50 半导体用高精度冷水机

最低工作温度
最高工作温度
温度稳定性
长期无故障运行是DHT®.Chiller具有的得天独厚的优势。依托DHT®(多禾 )常年应对各种复杂环境下的系统控制技术的挑战和迭代,通过实时监测与精准调控制冷压缩机的工作状态,确保所有组件处于最佳运行状态,进而实现了整体设备的长期稳定无故障运行,为您提供持续稳定可靠的冷热源,尤其适合于对冷热源稳定性具有严苛要求以及追求免维护的使用场景。
  • 产品优势
  • 产品参数
  • 行业应用
  • 1.来自欧洲的设计

    2.低故障率 长寿命 低噪音

    3.可选支持超过100步的温度循环控制

    4.可选支持温度斜率控制要求

    5.可选满足IP防护54要求

    6.可选风冷或者水冷冷却方式

    7.可选宽范围的运行环境要求

    8.符合欧洲标准的能耗以及环保要求

    9.可选前瞻的工业4.0互联功能,标配Rs232,网口,支持Modbus RTU 和Modbus TCP通讯协议,支持USB输出导出导入

    10.无触屏运行

    11.可选多级用户管理

    12.可选动态控温控流量任务

    13.多种接口配套方案可选

    14. 高投入与多工序管理:半导体行业投入巨大,制造工序繁多。DHTChiller-SE 帮助客户在每个环节进行严格的质量把控,提高产品良品率,确保收益。
    15. 温度稳定性与精准度:温度是影响半导体产品质量的关键因素。DHTChiller-SE 提供高稳定性和高精准度的温度控制,保障产品的稳定性和可靠性。
    16. 全流程支持:DHTChiller-SE 循环冷却器和水-水热交换器支持半导体工艺的前端到后端整体流程,满足不同环节的温度需求。
    17. 丰富的经验与专业知识:拥有超过16年的温度控制经验和与知名主设备机台直接配套的经验,DHTChiller-SE 为客户提供标准化和定制化的温度控制产品,结合专业技术知识,确保满足半导体工艺中的苛刻温度要求。
    18 全球化服务:DHTChiller-SE 提供全球化服务,确保在全球范围内的半导体客户都能获得及时的技术支持和服务。


    型号SE8SE14SE24SE50SE65
    SE8WSE14WSE24WSE50WSE65W
    温度范围                                          -45°C-40°C


    1. 硅片制造:提供稳定冷却,确保化学机械抛光(CMP)效果均匀,提高硅片质量。
    2. 沉积:控制薄膜沉积过程中的温度,避免质量不均。
    3. 光刻:调节曝光过程中的温度,防止光刻胶流动,提高光刻精度。
    4. 刻蚀:稳定刻蚀环境,防止过热导致的刻蚀不均。
    5. 离子注入:冷却离子注入过程中的热量,确保离子分布均匀。
    6. 清洗:控制清洗液温度,提高清洗效果。
    7. 电镀:保持电镀液温度,确保镀层均匀和结合力强。
    8. 测试:提供恒定测试环境,确保测试数据准确。